这一刻,曹卫东想到了湾湾的某电。在某电横空出世之前,芯片厂的制造模式被称作Idm。即从芯片设计到完成成品。都是由同一家公司完成的。然而这就意味着芯片公司必须具有整个产业链上的技术与人才、生产制造设备,导致每家公司都无法专精于芯片产业链上的某个环节,造成大量的资源浪费。张仲谋认为,未来的芯片产业必定是要实现分工的,而晶圆制造这一领域,属于整个芯片行业的底端。晶圆是芯片的母体。晶圆制造,则是将芯片设计图纸真正在晶圆上蚀刻成电路的工艺技术。于是他创办了某电,专门做晶圆制造的代工。这样做的好处是把一大批创业期芯片设计公司解放出来,让他们专注于自己天马星空的设计方案,推动了芯片的快速发展,而把实际制造、需要大量设备工艺与工人的的“脏活累活”交给代工厂们实现。这种区别于Idm模式的芯片制造模式,被称为代工厂模式。之后的事情也证明了张仲谋的正确。随着个人计算机、手机的兴起,以及对消费级芯片的需求量爆发式增长,从而诞生了很多芯片初创公司,这些公司无力承担芯片全产业链的成本,因而纷纷主攻轻资产的芯片设计环节,而将制造交予台积电这样的专业化代工厂。于是,台积电逐渐腾飞。曹卫东觉得,芯片代工的道路很适合星火电子厂。他可以将星火电子厂打造成一家全产业链能力的Idm大厂,但是在非特定领域可以对外代工。当然,其中还有一个隐患,就是光刻机。君不见与某电同台竞争的大陆本土晶圆代工企业中芯国际,由于一直苦于没有高端光刻机供货,至今也只能接接中低端的代工订单,无法踏入高端芯片制造舞台。光刻机。曹卫东低声呢喃着。在解决了EdA软件卡脖子的问题后,除了推陈出新,推进自家EdA软件发展之外,下一步,他还要着手解决光刻机的问题。实际上,神州一直是光刻机设计制造生产大国。1964年,神州科学院研制出65型接触式光刻机;1970年,神州科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺。1977年,光刻机GK-3型半自动光刻机诞生,这是一台接触式光刻机。1980年,清华大学研制第四代分部式投影光刻机,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平,而直到这个时候,光刻机巨头ASmL还没诞生。1981年,神州科学院半导体所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。1982年,KhA-75-1光刻机诞生,这些光刻机跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年的时间。1985年,机电部45所研制出了分步光刻机样机,通过电子部技术鉴定,认为达到美国4800dSw的水平。此时,神州在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。但是很可惜,神州的光刻机研发之旅至此结束。从这之后,神州开始大规模引进外资,在"造不如买”“科学无国界”等思潮,光刻技术和产业化,停滞不前,许多光刻机等科技计划被迫取消。而在这期间,荷兰的ASmL在整合了全世界的资源后,出奇制胜,成为光刻机绝对的霸主。在ASmL成功的道路上,有两大机遇。一是浸润式光刻技术,由此对应着dUV光刻机。一是深紫外线光刻机技术,由此对应着EUV光刻机。九十年代,干式光刻机技术大行其道,其芯片生产工艺达到了65nm,接下来的目标是向着45nm前进。然而干式光刻机使用的是干式介质,采用的光线有一大堆问题,非常难以解决。这时候某电的林本坚就提出了一个观点,即用水来充当介质。经过试验,他发现这一思路是可行的。彼时的光刻机巨头尼康、佳能。这些大厂早就在干式光刻机上投入了几十亿美元研究,投入太多,无法改弦更张。而ASmL因为是一家小厂,秉承着光脚不怕穿鞋的理念,和某电合力研发浸润式光刻机了。最后就是ASmL与台积电研发浸润式光刻机成功了。这就是dUV光刻机。经过了多年的发展,目前,dUV光刻机已经可以满足绝大多数需求,可以覆盖7nm及以上制程需求。到了这时候,学者们的普遍观点是,EUV将是下一代光刻技术。EUV光刻机采用波长为10-14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5nm,能满足10nm以下的晶圆制造,并且还可以向5nm、3nm继续延伸。另外值得一提,早在20世纪80年代,大约是1985年,就有学者开始研究EUV光刻技术。只可惜技术一直达不到要求,而且要消耗大量的资金,因此这一技术发展缓慢。直到2015年,EUV光刻机才进入可量产阶段。“我记得之前看过资料,一台EUV光刻机的造价高达6500万美元,如果初期研究,投入的花销还会更多,所以目前,我应该推进浸润式光刻机的发展,这是符合时代潮流的,等通过浸润式光刻机将星火电子厂做大做强后,再来推进EUV光刻机的研究。”“虽然我可以从万界商城中购买到全套技术,但以目前的环境、人才、社会形势,还不到拿出完整浸润式光刻机的时候,还需要等待啊。”这个世界是复杂的,联动的。并不是有技术就可以为所欲为。君不见脚盆鸡在半导体如日中天,却被美爹以非常非常血腥的方式瓜分肢解。君不见华为前脚遥遥领先,后脚就被美帝无耻打压。曹卫东对此很警惕。很快,他就在心里制定了一套方案。一方面,联合神州科学院,悄然进行浸润式光刻机的研究。另一方面,提醒国家,以应对西方世界发动的舆论战,防止出现自废武功的事情。“咦,这样的话,我似乎可以成立一个战忽局了,芯片战忽局?”“什么浸润式光刻机,那只是干式光刻机改而已.......”“什么10nm,就是比常规芯片小一点而已.......”“什么浸润式技术,什么EUV光刻技术,干式光刻技术才是未来的王道!”“美帝,你看我们旁边的脚盆鸡、韩棒子、阿三哥,他们都有狼子野心啊.......”想到这里,曹卫东表情瞬间变得古怪起来。
第690章 芯片战忽局
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